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巨偉鈦業(yè)定制鈦靶塊 鈦靶材 高純鈦靶 規(guī)格全 批量?jī)?yōu)惠
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巨偉鈦業(yè)定制鈦靶塊 鈦靶材 高純鈦靶 規(guī)格全 批量?jī)?yōu)惠

發(fā)布時(shí)間 :2020-07-26 17:17:45 瀏覽次數(shù) :
產(chǎn)品名稱鈦靶塊 、鈦靶材
牌號(hào)/材質(zhì) TA1,TA2,TA3,TC4(Ti6AL4V),GR1,GR2,GR3,GR5( Ti6AL4V)
標(biāo)準(zhǔn) 鈦圓靶 :技術(shù)條件:符合GB/T2695-1996,ASTMB348-97 鈦板靶 :技術(shù)條件:符合GB/T3621-94,ASTM B265-93
規(guī)格 圓靶:常用規(guī)格:60/65/95/100*30/32/40/45mm板靶:(8-25)mm * (150-300) mm * (1000-2500)mm管靶: 70mm * 7mm/10mm
表面 車光,可加螺紋
特性 重量輕,優(yōu)異的抗腐蝕性,防腐性,強(qiáng)度高,耐熱性好,延展性好,無(wú)毒性,無(wú)磁性,優(yōu)良的機(jī)械強(qiáng)度等。
狀態(tài) 退火態(tài)(M) 熱加工狀態(tài)(R) 冷加工狀態(tài)(Y)(退火,超生波探傷)
應(yīng)用鈦靶材廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業(yè)等領(lǐng)域。
品名 純度 密度 鍍膜優(yōu)勢(shì)色 形狀 常規(guī)尺寸 應(yīng)用行業(yè)
鈦鋁(TiAl)合金靶 2N8-4N 3.6-4.2 玫瑰金/咖啡金 圓柱形 直徑    60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鉻(Cr)靶 2N7-4N 7.19 白色/黑色 圓柱形 直徑60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鈦(Ti)靶 2N8-4N 4.51 金黃色/槍黑色/    藍(lán)色/玫瑰紅 圓柱形 直徑    60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鋯(Zr)靶 2N5-4N 6.5 金色 圓柱形 直徑    60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鋁(Al)靶 4N-5N 2.7 銀色 圓柱形 直徑    60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鎳(Ni)靶 3N-4N 8.9 金屬本色 圓柱形 直徑    60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
鎳釩(Nir)靶 3N 8.57 藍(lán)綠色 圓柱形 直徑    60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鈮(Nb)靶 3N 8.57 白色 圓柱形 直徑    60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鉭(Ta)靶 3N5 16.4 黑色/紫色 圓柱形 直徑    60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具

鈦靶概述及材質(zhì)要求

1、純度

純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一,因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過(guò)在實(shí)際應(yīng)用中,對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展,硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對(duì)靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

2、雜質(zhì)含量

靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如,半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

3、密度

為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過(guò)程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。

鈦靶材

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